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东莞市鼎伟新材料有限公司专业生产:镍钒合金靶、高纯铬靶、钛铝靶、铬铝靶、镍铬合金靶、钨钛合金靶材等;公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名电子、太阳能企业当中,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户好评。

高纯铬靶的目标杂质控制

时间:2021-04-16浏览数:372

高纯铬靶的目标杂质控制:如果靶中的夹杂物数量过多,则在溅射过程中可能在晶片上形成颗粒,从而导致互连线短路或断开,这将严重影响膜的性能。高纯铬靶中的大多数夹杂物是在冶炼和铸造过程中形成的,主要由氧化物组成,但也包括氮化物,碳化物,氢化物,硫化物,硅化物等,因此应在冶炼和铸造过程中使用。坩埚,内部 流道,铸模等由还原性材料制成,在浇铸之前,应将熔体表面的氧化物和其他炉渣彻底清除。 通常,它们在真空或无氧环境中熔融并浇铸。铬靶批发、铬靶价格在市场也是不一样的。


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