热门搜索:

东莞市鼎伟新材料有限公司专业生产:镍钒合金靶、高纯铬靶、钛铝靶、铬铝靶、镍铬合金靶、钨钛合金靶材等;公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名电子、太阳能企业当中,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户好评。

高纯铬靶的发展前景

时间:2021-04-16浏览数:396

高纯铬靶的目标晶粒尺寸和分布:通常,目标材料具有多晶结构,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的数量级上。 对于相同组成的靶材,细颗粒靶材的溅射速率比粗颗粒高纯铬靶的溅射速率快,而晶粒尺寸较小的靶材具有更均匀的沉积膜厚度分布。 通过真空熔融法制造的靶材可以确保块内没有孔,但是通过粉末冶金法制造的高纯铬靶很可能包含一定数量的孔。 孔的存在会在溅射过程中引起异常放电,从而产生杂质颗粒。 此外,由于其密度低,在操作,运输,安装和操作过程中,带有孔的目标很容易破碎。

目标处理流程:集成电路制造用溅射靶的加工工艺主要包括熔炼,均质化,压力加工,机械加工等工艺。 在严格控制靶材纯度的基础上,铬靶、铌靶、钛铝靶通过优化压力处理工艺,热处理条件和机械加工条件,调整靶材的晶粒取向和晶粒尺寸,满足溅射工艺要求。


http://www.bacai586.com

下一篇:科研钒靶材
产品推荐

Development, design, production and sales in one of the manufacturing enterprises

您是第625980位访客
版权所有 ©2024-04-14 粤ICP备15045043号-6

东莞市鼎伟新材料有限公司 保留所有权利.

技术支持: 八方资源网 免责声明 管理员入口 网站地图