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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬..
对溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且较终沉积在基片表面，经历成膜过程，较终形成薄膜。溅射镀膜又分为很多种，总体看..
陶瓷靶材是比较脆的靶材,通常陶瓷靶材都会绑定背板一起使用.背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热传递的作用.陶瓷靶材的种类很多,应用范围广泛,主要用于微电子领域,显..
镍钒合金靶材的特点及应用镍钒合金靶材主要用于太阳能行业, 电子行业等领域.镍钒靶材的应用及要求的纯度如表 1 所示.1)光存储 .2) 太阳薄膜电池.3) 平板显示器镀膜.4) 电子及半导体领域.5) 建..
高纯度钨靶材是典型性衔接金属钨的一种化工原材料，其因纯净度高（超过99.95%），密度大（19.35g/cm3），蒸汽放低，挥发速率小，耐热功能好等特性，常见来生产制造薄厚特小的氧化钨薄膜。就现..
靶材便是快速荷能粒子负电子的总体目标原材料。靶材类型比较多,有金属类、合金类、金属氧化物类这些,用的领域也各有不同,运用很普遍。那麽普遍的金属靶材有什么?普遍金属靶材的类型如下所示基..
镍合金是以镍为基添加别的元素组成的合金。镍具备较好的结构力学、物理学和有机化学特性，加上适合的原素可提升它的抗氧化、耐腐蚀性、高溫抗压强度和改进一些机械性能。镍合金可做为整流管用..
成分：碳(C)≤0.07,锰(Mn)≤2.0,镍(Ni)32.0～38.0,硅(Si)≤1.0,磷(P)≤0.045,硫du(S)≤0.035,铬(Cr)19.0～21.0铌(Nb) ≤1.0,铝(Al) ≤0.2,钛(Ti) 0.6～1.2,铜(Cu) 3.0～4.0 ,钼(Mo)2.0～3.0运..
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