陶瓷靶材

陶瓷靶材是比较脆的靶材,通常陶瓷靶材都会绑定背板一起使用.背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热传递的作用.陶瓷靶材的种类很多,应用范围广泛,主要用于微电子领域,显示器用,存储等领域.陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料,已得到空前的发展.

陶瓷靶材的种类及各自应用

按应用来分,可分为半导体关联陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、磁记录陶瓷靶材、光记录陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材等.

半导体关联陶瓷靶材(HfO,SiO,Si3N4,MoSi,TaSi,WSi,TiSi,PLZT,ITO,主要应用于栅极电介质膜.饨化膜,扩散阻挡膜,电容器绝缘膜,透明导电膜;

显示陶瓷靶材 ZnS—Mn,ZnS-Tb,ZnS-Sm,CaS-Eu,SrS-Ce,Si3N4,MgO ,主要应用于电致发光薄膜发光层,电致发光薄膜绝缘层, 磁盘等;

磁记录陶瓷靶材 Si3N4 ,主要应用于磁头,磁光盘(MO)保护;

光记录陶瓷耙材 Si3N4, 主要应用于光盘保护膜;

超导陶瓷靶材 YbaCuO, BiSrCaCuO ,主要应用于超导薄膜;

巨磁电阻陶瓷靶材, 主要应用于薄膜太阳能电池窗;

其它应用靶材 In₂O₃，LiNbO₃， BaTiO₃, PZT. ZnO ，主要应用于太阳能电池，压电薄膜

按化学组成,可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等.其中平面显示ITO陶瓷靶材国内已广泛生产应用.高介电绝缘膜用陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材具有广阔的应用前景.

例：氧化物陶瓷溅射靶是高级陶瓷溅射靶中较常见的靶。氧化物陶瓷可以通过在高温下烧结而制成，其中一种或多种氧化物为主要主要成分，而其他次要氧化物为添加剂。它们分为简单氧化物陶瓷和复杂氧化物陶瓷。这种类型的常见溅射靶材包括氧化铝（Al2O3），氧化镁 （MgO），氧化铍（BeO），氧化锆 （ZrO2）等。大多数氧化物陶瓷具有高熔点，出色的绝缘性，耐热强度，抗氧化剂和腐蚀性能。因此，它们可以长时间暴露在高温和氧化环境中，值得在工程领域中广泛应用。