热门搜索：

东莞市鼎伟新材料有限公司专业生产：镍钒合金靶、高纯铬靶、钛铝靶、铬铝靶、镍铬合金靶、钨钛合金靶材等；公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名电子、太阳能企业当中，以较高的性价比，成功发替代了国外进口产品，颇受用户好评。

合金靶材溅射原理

时间：2021-10-09点击次数：1603

对溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，

并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且较终沉积在基片表面，经历成膜过程，较终形成薄膜。

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

 溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，

而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。

以pld为例，因素主要有：

靶材与基片的晶格匹配程度 　镀膜氛围（低压气体氛围） 　基片温度 　激光器功率 　脉冲频率 　溅射时间 　对于不同的溅射材料和基片

较佳参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精确控温，

能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。



http://www.bacai586.com

上一篇：金属靶材发展前景
下一篇：靶材制作工艺
产品推荐

Development, design, production and sales in one of the manufacturing enterprises

您是第13040199位访客
版权所有 ©2026-11-08 粤ICP备15045043号-6

东莞市鼎伟新材料有限公司 保留所有权利.

技术支持： 八方资源网 免责声明 管理员入口 网站地图