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氧化铟锡(英文全称为Indium Tin Oxide,简称“ITO”),由氧化铟和氧化锡粉末按照一定比例混合后,经过一系列的生产工艺加工成型,再高温烧结形成的黑灰色陶瓷半导体材料。
氧化铟锡作为一种n型半导体材料,具有高的导电率、优异的可见光透过率、较强的机械硬度和良好的化学稳定性,主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、太阳能电池、抗静电镀膜、EMI屏蔽的透明传导镀、各种光学镀膜等。
ITO靶材是溅射靶材中的一种,主要通过磁控溅射将ITO靶材气化,溅镀到玻璃基板或柔性有机薄膜上,制造成ITO薄膜,后者为透明导电氧化物薄膜,厚度一般为30-200纳米。
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